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◇昭和52年 | 笠原工業株式会社上田工場電子部にて精密研磨部門を設立 |
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カメラフィルターガラス､時計カバーガラス､ミラージュカットレンズ加工開始 | |
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◇昭和56年 | ポリッシュ技研株式会社として独立 |
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ＩＣフォトマスク基板加工開始 | |
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◇昭和58年 | 石英フォトマスク基板加工開始 |
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CCD基板加工開始 | |
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◇昭和60年 | PPC ミラー基板加工開始 |
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◇昭和61年 | 工場移転 |
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大型２２Ｂ加工機導入 | |
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クリーンルーム増設､クラス１０００ | |
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◇昭和63年 | ビューファインダー基板加工開始 |
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◇平成4年 | クリーンルーム増設 |
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◇平成5年 | HDD ガラスディスク基板量産開始 |
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◇平成6年 | 全自動超音波洗浄機更新 |
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◇平成7年 | 他硝種HDDガラスディスク基板加工開始 |
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◇平成9年 | HDD基板内外径チャンファー機増設 |
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◇平成10年 | HDD基板内外径鏡面機導入 |
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◇平成12年 | ワイヤソー切断機導入 |
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サファイヤ､LT､石英､SIC切断開始 | |
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液晶プロジェクター用基板加工開始 | |
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◇平成13年 | 第二工場増設 |
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ワイヤソー切断機増設 | |
| ◇平成14年5月 |
笠原工業株式会社と合併、ポリッシュ部として事業開始 |
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◇平成21年 | 工場移設（駅前再開発により） |
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◇平成25年4月 | 精密加工部に改名 |
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◇平成27年11月 | ケミカル（化学）強化炉設置 |
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◇平成29年11月 | 浜井製 両面研磨機・ポリッシュ・ラップ機導入 |
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◇令和4年9月 | 安永製 SW830DS φ8インチ用スライス加工増設 |
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